Адсорбция хлора на поверхность Ag (110): СТМ и ТФП исследование

25.08.2023
Адсорбция хлора на поверхность Ag (110): СТМ и ТФП исследование (пресс-релиз в формате .pdf)


     Реакция эпоксидирования этилена привлекает к себе большое внимание в связи с экономической важностью оксида этилена в качестве универсального химического промежуточного продукта (EO является 14 в списке самых производимых органических химикатов в мире). Добавление хлорированных углеводородов к реакционному сырью является стандартным решением в промышленной практике и обеспечивает увеличение селективности реакции эпоксидирования с 40-50 % до 80-90 %. Выяснение механизмов данной реакции на уровне взаимодействия отдельных атомов и молекул является исключительно важной и актуальной задачей, решение которой необходимо для совершенствования процессов промышленного синтеза этиленоксида.

     Учёные из отдела технологий и измерений атомного масштаба Центра естественно-научных исследований Института общей физики им. А.М. Прохорова (Н.С. Комаров, В.М. Шевлюга, Б.В. Андрюшечкин) и Национального исследовательского университета "МИЭТ" (Б.А.Логинов) впервые обнаружили серию двумерных фазовых переходов (см. Рис. 1), а также реконструкцию поверхности Ag(110) при взаимодействии молекулярным хлором. Результаты исследования были опубликованы в Journal of Physical Chemistry C — авторитетном журнале Американского химического общества (The American Chemical Society), являющегося журналом первого уровня согласно Белому списку научных журналов Российского центра научной информации. Komarov N.S., Shevlyuga V.M., Loginov B.A., and Andryushechkin B.V “Chlorine Adsorption on the Ag(110) Surface: STM and DFT Study” J. Phys. Chem. C 127 (5) 2266–2273 (2023) https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.2c06480
     Важность данного результата, заключается в том, что впервые удалось установить, как хлор модифицирует поверхность серебряного катализатора, используемого в реакции эпоксидирования этилена, тем самым приблизиться к установлению природы активных центров.

andryushechkin_fig.jpg

Рис. 1. Серия СТМ изображений хлорированной поверхности Ag(110), записанная при последовательном увеличении степени покрытия хлора в диапазоне от 0.50 до 0.78 МС (монослоев). (Публикуется с разрешения авторов. Источник: https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.2c06480)
Работа была выполнена при поддержке Российского Фонда Фундаментальных Исследований (РФФИ) № 20-02-00767.

Пресс-релиз подготовил: заведующий лабораторией отдела технологий и измерений атомного масштаба Центра естественно-научных исследований ИОФ РАН, доктор физико-математических наук Б.В. Андрюшечкин.



Другие записи